- O7 晶体学
- O71 几何晶体学
- O711 晶体对称性
- O711+1 对称性理论
- O711+2 点群和有限图形的对称性
- O711+3 空间群和点阵图形的对称性
- O711+4 晶系、晶类
- O712 点阵和倒易点阵
- O713 晶体外形和晶体投影
- O713+1 测角技术与仪器
- O713+2 晶体投影
- O713+3 晶体外形规律
- O713+4 晶体外形数据
- O713+5 晶体习性
- O72 X射线晶体学
- O721 晶体对X射线、电子和中子的衍射理论
- O722 衍射实验及数据处理
- O722+1 劳厄法
- O722+2 周转法、回摆法及魏森伯法
- O722+3 倒易点阵直接照相法
- O722+4 粉末法
- O722+5 低角散射（小角散射）
- O722+6 漫散射
- O722+7 电子衍射与中子衍射
- O722+8 扩展X射线吸收精细结构（EXAFS）
- O723 结构分析
- O723+1 粉末法中单胞的确定
- O723+2 空间群的测定
- O723+3 傅立叶综合法（帕特森投影及电子支分布法）及重原子法
- O723+4 周相问题
- O723+5 结构分析所用的模拟及计算工具
- O723+6 结构参数的准确测定
- O723+7 点阵常数的准确测定
- O73 晶体物理
- O731 晶体的物理性质
- O732 晶体的各向导性
- O732+1 晶体的矢量和张量性质
- O733 晶体的力学性质
- O733+1 点阵力学
- O733+2 弹性与滞弹性
- O733+3 范性形变
- O733+9 其他
- O734 晶体的光学性质
- O734+1 电光、弹光、非线性光学效应
- O734+2 折射、反射
- O734+3 发光现象
- O735 晶体的声学性质
- O736 晶体的热学性质
- O737 晶体的磁学性质
- O738 晶体的电学性质
- O739 晶体物理实验
- O74 晶体化学
- O741 晶体结构数据（结构报告）
- O741+1 金属和合金体系
- O741+2 矿物
- O741+3 无机物
- O741+4 硅酸盐
- O741+5 氧化物体系
- O741+6 有机物
- O742 晶体化学的规律性
- O742+1 晶体中的化学键
- O742+2 原子半径、离子半径及极化率
- O742+3 密堆积和配位
- O742+4 同晶型和多晶型
- O742+5 化学组成和结构间的关系
- O742+6 水合物和结晶水
- O742+7 晶体中的氢键
- O742+8 有序、无序转变
- O742+9 结构与性能间的关系
- O743 系统晶体化学
- O743+1 元素的晶体化学
- O743+2 金属和合金晶体化学
- O743+3 无机物晶体化学
- O743+4 硅酸盐晶体化学
- O743+5 有机物晶体化学
- O743+51 高聚物晶体化学
- O743+52 蛋白质、生化物质晶体化学
- O743+53 络合物、螯合物和元素有机物晶体化学
- O75 非晶态和类晶态
- O751 非晶态
- O752 丝缕结构
- O753 类晶态
- O753+1 微晶
- O753+2 液晶
- O753+3 准晶体
- O754 无定形态和琉璃态
- O756 非晶态和类态材料的应用
- O76 晶体结构
- O761 复相在晶体中的分布
- O762 孪生晶体
- O763 晶粒间界
- O764 粒度分析
- O765 晶体中的应力
- O766 观察、分析晶体结构的实验方法
- O766+1 显微镜技术
- O766+2 光测弹性学
- O766+3 X射线方法
- O766+4 衍射方法
- O77 晶体缺陷
- O77+1 点缺陷、面缺陷、体缺陷
- O77+2 位错
- O77+3 色心
- O77+4 高能辐射在晶体中的效应
- O77+5 杂质
- O77+9 其他缺陷
- O78 晶体生长
- O781 晶体生物理论
- O782 晶体生长工艺
- O782+1 溶液法
- O782+2 高温超高压法
- O782+3 焰熔法（维尔纳叶法）
- O782+4 熔盐法（助熔剂法）
- O782+5 提拉法
- O782+6 浮区法
- O782+7 气相-固相反应
- O782+8 固相-固相反应、应变退火法
- O782+9 其他生长方法
- O783 再结晶
- O784 晶须
- O785 单晶体的检验
- O785+1 单晶体的定向
- O785+2 锥光偏振仪技术
- O785+3 X射线拓扑技术
- O785+4 电子自旋共振技术
- O785+5 电子探针分析技术
- O785+6 分光光度计技术
- O785+7 位错密度的测定
- O786 晶体加工
- O787 区域提纯（区熔提纯）
- O79 晶体物理化学过程
- O791 扩散
- O792 相变
- O793 表面现象和表面性能
- O794 玻璃的晶化
- O795 晶化过程的热力学与动力学
- O799 应用晶体学
