光刻技术

预约

光刻技术

TN305.7/4452
here is why
林本坚著;严天宏译
北京 化学工业出版社 2024
978-7-122-45151-4
369页 27cm
光刻系统
5
中文图书
本书旨在帮助读者掌握驱动光学光刻的基本方程和常数的相关知识, 学习曝光系统和图像形成的基础理论, 并了解光刻系统组件、处理和优化的相关知识; 读者还可掌握光学光刻技术的前景和总体情况, 加强对半导体制造技术的认知; 还添加了接近印刷方面的全新材料, 以及曝光系统、图像形成、E-D方法、硬件组件、处理和优化方面的更新和扩展材料, 以及EUV技术和最新的浸没式光刻相关技术。
1
1
无
林本坚著 Burn J. Lin. 光刻技术[M]. 严天宏译. 北京 化学工业出版社 2024. 点此复制

馆藏地址

条形码目前状态卷册号馆藏地址架位信息
H412720在馆徐汇中文书库正在处理